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氯含氫分析儀

更新時(shí)間:2024-07-05

設備型號:

簡(jiǎn)要描述:

氯含氫分析儀,它采用熱傳導原理,提供了對兩相氣體的高敏感和精確分析H2、He、Ar、CH4、CO2等。廣泛應用在石化、電力、冶金、航天等Z通常是電廠(chǎng)或熱站中氫冷發(fā)電機應用。三范圍是用于氫冷發(fā)電機組的發(fā)電機的氫氣純度。

  免費咨詢(xún):010-87396336分機818

  發(fā)郵件給我們:fsyq17@126.com

 

氯含氫分析儀的應用

熱處理

熔化爐和鍍鋅

鋼鐵工業(yè)

化工和石化行業(yè)

合成氣

肥料

和氯廠(chǎng)

核電站和電力工業(yè)

氫冷發(fā)電機

天然氣生產(chǎn)行業(yè)純度監測

氫氣發(fā)生器

 

 

 

半導體裝置的H2氣體濃度測量

氫氣發(fā)生裝置的H2氣體濃度測量

燒結爐的H2氣體濃度測量

煤氣發(fā)生設備的Ar、He、CH4濃度測量

超導裝置的He氣體濃度測量

空氣分離設備的Ar氣體濃度測量 

 

氯含氫分析儀技術(shù)參數:

量程:0-1%、0-2%、0-5%、0-10%、0-15%、0-20%、0-30%、0-40%、0-75% ;0-100%、80-100%、95-100%、98-100%H2\He\CH4\HC等

 

 

 

 

發(fā)電機組應用量程:

H2 IN AIR:    85-100%;或75--100%

H2 IN CO2     0-100%

CO IN AIR     0-100%

三元混合氣測量

He IN Ar      0-100%

H2 IN N2      0-100%

He IN N2      85-100%

四元混合氣體測量

N2 IN Ar      0-100%

Ar IN CO2     0-100%

H2 IN Ar      0-100%





精度:±1%FS

重復性 ≤0.3%

線(xiàn)性誤差 ≤1% FS

相應時(shí)間 :

H2反應< 1秒;60%--13s;90%--24s;99%--40s;;CO2反應< 2秒;

60%--23s;90%--45s;99%--80s

流量:100mL--2L/MIN

樣氣接口:1/4"或6mm卡套接口

模擬輸出 4-20mA (zui多四個(gè))

信號輸出:RS232\RS485

電源 :24-30VDC(傳感器 ),或通過(guò)儀表115VAC±10%;  220V±20% 50±0.5Hz 150VA

防護等級:IP66

防爆等級:EEX d ⅡC T6

應用區域zone1\zone2;CLass1

防爆認證:ATEX94/9/CE,CSA

 

 

 

標準規格 測量方式 熱傳導式
測量組分 He、Ar、H2、CH4、CO2
測量范圍 H2:0~3……100%,100~90,100~80%
He:0~5……100%,100~90,100~80%
Ar:0~10……100%,100~90,100~80%
CH4:0~20……100%,100~80%
輸出信號 DC4~20mA、DC0~1V、DC0~10mV 非隔離輸出(其中某一點(diǎn),根據型號)
容許負載電阻 不超過(guò)550Ω(DC4~20mA輸出時(shí))
輸出電阻 100kΩ(DC0~1V、DC0~10mV時(shí))
顯示器 帶背光LCD
測量值顯示 zui多4位或小數點(diǎn)后帶2
輸出信號保持 手動(dòng)校正、自動(dòng)校正時(shí)保持校正前的輸出值
電源電壓、功耗 AC100~240V 50/60Hz、約50VA
環(huán)境溫度、濕度 -5~45℃、不超過(guò)90%RH(應無(wú)結露)
安裝方法 面板嵌入型
外形尺寸(H×W×D) 240×192×213mm
重量 約5kg
外殼類(lèi)型 鋼板制外殼、室內型
氣體出入口、換氣口 Rc1/4或NPT1/4(根據)
換氣氣體的流量 約1L/min(根據需要進(jìn)行)
適用標準 CE標記(預定取得認證)
性能 重復性 ±1%FS
漂移 零點(diǎn):±2% FS/周 以?xún)龋℉2分析儀)
滿(mǎn)量程點(diǎn):±2% FS/周 以?xún)龋℉2分析儀)
響應速度(90%響應) 標準:60秒以?xún)龋?.4L/min流量)
高速:10秒以?xún)龋?L/min流量)
但僅限H2分析儀(參比氣為N2
標準測量氣體條件 溫度 0~50℃
氣體流量 0.4±0.05 L/min 且應穩定
塵埃 不超過(guò)1µm的微粒, 不超過(guò)100µg/Nm3
壓力 不超過(guò)10kPa
氣霧、腐蝕性氣體 無(wú)
水分 不超過(guò)2℃飽和

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